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產品中心

PRODUCT CENTER


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Thetametrisis FR-pRo膜厚儀 膜厚測量儀

Thetametrisis FR-pRo膜厚儀 膜厚測量儀

1. 產品概述

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀 是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

FR-pRo膜厚儀 是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

比如:

吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…

2. 膜厚儀應用

  • 大學&研究實驗室
  • 半導體行業
  • 高分子聚合物&阻抗表征
  • 電介質特性表征
  • 生物醫學
  • 硬涂層,陽極氧化,金屬零件加工
  • 光學鍍膜
  • 非金屬薄膜等等


FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,和心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

此外,還有各種各種配件,比如:

  • 用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架;
  • 用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;
  • 用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒;
  • 漫反射和全反射積分球。

通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

3. 膜厚儀規格(Specificatins 

Model

UV/Vis

UV/NIR -EXT

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D Vis/NIR

NIR

光譜范圍  (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

像素

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

厚度范圍

1nm – 80um

3nm – 80um

1nm – 120um

1nm – 250um

12nm – 100um

12nm – 250um

50nm – 250um

測量n*k 蕞小范圍

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

準確度*,**

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

2nm or 0.2%

3nm or 0.4%

精度*,**

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.1nm

穩定性*,**

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.15nm

光源

氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

鎢鹵素燈(內置)

光斑 (直徑)

350um (更小光斑可根據要求選配)

材料數據庫

> 600 種不同材料

4. 膜厚儀配件(Accessries) 

電腦

19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

聚焦模塊

光學聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

薄膜/比色皿容器

在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量

接觸式探頭

用于涂層厚度測量和光學測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

顯微鏡

用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量

Scanner  (motorized)

帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量

積分球

用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

手動 X-Y 樣品臺

測量面積為 100mmx100mm 200mmx200mm x - y 手動平臺

加熱模塊

嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

液體模塊

聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,

用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

流通池

液體中吸光率、微量熒光測量


5. 膜厚儀工作原理

白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

* 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

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