1. 產品概述
FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。
FR-pRo膜厚儀 是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。
FR-pRo膜厚儀 是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。
比如:
吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…
2. 膜厚儀應用
FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,和心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。
此外,還有各種各種配件,比如:
通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。
3. 膜厚儀規格(Specificatins )
Model |
UV/Vis |
UV/NIR -EXT |
UV/NIR-HR |
D UV/NIR |
VIS/NIR |
D Vis/NIR |
NIR |
光譜范圍 (nm) |
200 – 850 |
200 –1020 |
200-1100 |
200 – 1700 |
370 –1020 |
370 – 1700 |
900 – 1700 |
像素 |
3648 |
3648 |
3648 |
3648 & 512 |
3648 |
3648 & 512 |
512 |
厚度范圍 |
1nm – 80um |
3nm – 80um |
1nm – 120um |
1nm – 250um |
12nm – 100um |
12nm – 250um |
50nm – 250um |
測量n*k 蕞小范圍 |
50nm |
50nm |
50nm |
50nm |
100nm |
100nm |
500nm |
準確度*,** |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
2nm or 0.2% |
3nm or 0.4% |
精度*,** |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.1nm |
穩定性*,** |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.15nm |
光源 |
氘燈 & 鎢鹵素燈(內置) |
鎢鹵素燈(內置) |
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光斑 (直徑) |
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350um (更小光斑可根據要求選配) |
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材料數據庫 |
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> 600 種不同材料 |
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4. 膜厚儀配件(Accessries)
電腦 |
19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦 |
聚焦模塊 |
光學聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um |
薄膜/比色皿容器 |
在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量 |
接觸式探頭 |
用于涂層厚度測量和光學測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品 |
顯微鏡 |
用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量 |
Scanner (motorized) |
帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量 |
積分球 |
用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射 |
手動 X-Y 樣品臺 |
測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺 |
加熱模塊 |
嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度). |
液體模塊 |
聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具, 用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中 |
流通池 |
液體中吸光率、微量熒光測量 |
5. 膜厚儀工作原理
白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。
* 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。
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