Thetametrisis FR-pRo膜厚儀 膜厚測量儀
1. 產品概述
FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。
FR-pRo膜厚儀 是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。
FR-pRo膜厚儀 是為客戶量身定制的，并廣泛應用于各種不同的應用。
比如：
吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…
2. 膜厚儀應用
- 大學&研究實驗室
- 半導體行業
- 高分子聚合物&阻抗表征
- 電介質特性表征
- 生物醫學
- 硬涂層，陽極氧化，金屬零件加工
- 光學鍍膜
- 非金屬薄膜等等…
FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，和心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統）和控制單元，電子通訊模塊。
此外，還有各種各種配件，比如:
- 用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架；
- 用于表征涂層特性的薄膜厚度工具；
- 用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒；
- 漫反射和全反射積分球。
通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。
3. 膜厚儀規格（Specificatins ）
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Model |
UV/Vis |
UV/NIR -EXT |
UV/NIR-HR |
D UV/NIR |
VIS/NIR |
D Vis/NIR |
NIR |
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光譜范圍 (nm) |
200 – 850 |
200 –1020 |
200-1100 |
200 – 1700 |
370 –1020 |
370 – 1700 |
900 – 1700 |
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像素 |
3648 |
3648 |
3648 |
3648 & 512 |
3648 |
3648 & 512 |
512 |
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厚度范圍 |
1nm – 80um |
3nm – 80um |
1nm – 120um |
1nm – 250um |
12nm – 100um |
12nm – 250um |
50nm – 250um |
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測量n*k 蕞小范圍 |
50nm |
50nm |
50nm |
50nm |
100nm |
100nm |
500nm |
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準確度*,** |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
1nm or 0.2% |
2nm or 0.2% |
3nm or 0.4% |
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精度*,** |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.02nm |
0.1nm |
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穩定性*,** |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.05nm |
0.15nm |
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光源 |
氘燈 & 鎢鹵素燈(內置) |
鎢鹵素燈(內置) |
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光斑 (直徑) |
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350um (更小光斑可根據要求選配) |
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材料數據庫 |
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> 600 種不同材料 |
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4. 膜厚儀配件（Accessries）
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電腦 |
19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦 |
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聚焦模塊 |
光學聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um |
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薄膜/比色皿容器 |
在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量 |
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接觸式探頭 |
用于涂層厚度測量和光學測量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品 |
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顯微鏡 |
用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量 |
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Scanner (motorized) |
帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品臺可選，Polar（R-Θ）樣品臺支持反射率測量，Cartesian（X-Y）樣品臺支持反射率和透射率測量 |
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積分球 |
用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射 |
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手動 X-Y 樣品臺 |
測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺 |
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加熱模塊 |
嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度). |
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液體模塊 |
聚四氟乙烯容器，用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具， 用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中 |
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流通池 |
液體中吸光率、微量熒光測量 |
5. 膜厚儀工作原理
白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經多層或單層薄膜反射后，經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學常數。
* 規格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。
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唐女士-華南、西南