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產品中心

PRODUCT CENTER


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EVG610 紫外光納米壓印機

EVG610 紫外光納米壓印機

1. 主要應用

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。

2. 簡介

該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

3. 特征

1) 頂部和底部對準能力

2) 高精度對準臺

3) 自動楔形誤差補償機制

4) 電動和配方控制的曝光間隙

5) 支持蕞新的UV-LED技術

6) 蕞小化系統占地面積和設施要求

7) 分步流程指導

8) 遠程技術支持

9) 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和配方,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

4. 附加功能

1) 鍵對準

2) 紅外對中

3) 納米壓印光刻

4) 微接觸印刷

5. 技術數據

1) 晶圓直徑(基板尺寸)

2) 標準光刻:碎片蕞大150毫米

3) 柔軟的UV-NIL:蕞大150毫米的碎片

4) 解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

5) 支持流程:柔軟的UV-NIL

6) 曝光源:汞光源或紫外線LED光源

7) 自動分離功能:不支持

8) 工作印章制作:外部

未經許可不得復制、轉載或摘編,違者必究!

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