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PRODUCT CENTER


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EVG770 分步重復納米壓印光刻機

EVG770 分步重復納米壓印光刻機

1. 簡介

我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVGSmartNIL工藝所需的母版。

2. 主要應用

主要使用連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作(例如:微鏡頭制作)。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精確的對準功能,全緬的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。

4. 參數特征

1)高效的晶圓級光學微透鏡主制造,直至SmartNIL的納米結構®

2)簡單實施不同類型的主機

3)可變抗蝕劑分配模式

4)分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

5)用于壓印和脫模的原位力控制

6)可選的光學楔形誤差補償

7)可選的自動盒帶間處理

5. EVG770技術數據

1)晶圓直徑(基板尺寸):100300毫米

2)解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

3)支持的工藝:軟UV-NIL納米壓印

4)曝光源:大功率LEDi線)> 100 mW /cm2

5)對準:頂面顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

6)弟一個印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

7)有效印記區域:長達50 x 50毫米

8)自動分離:支持

9)預處理功能:涂層:液滴分配(可選)

6. 納米壓印工藝結果

晶圓級微透鏡制造


圖1  微鏡頭

納米壓印結果(100納米分辨率)

圖2  納米壓印結果(100納米分辨率)

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